據了解，中微半導體（上海）的5nm刻蝕裝置已經準備好批量生產，預計在今年下半年將交付臺積電，為國內芯片生產帶來新的突破。

因為大家都知道，現在中國的注意力都集中在了光刻機上，但因為各種原因，中國一直在尋找更先進的光刻機。

刻蝕機是中國芯片行業發展最快的領域，目前為止，14nm技術已經發展到了14nm，光刻機還在研發28nm，刻蝕機7nm,5nm，刻蝕機是中國最大的一次技術革新。

事實上，光刻機和刻蝕機是芯片生產的兩個關鍵環節，在芯片生產的時候，光刻機會繪制芯片的線路，刻蝕機會根據光刻機上的圖案，通過物理或者化學的手段，將芯片上的多余部分剔除出去。

根據業內的消息，刻蝕機占據了芯片生產的百分之三十，刻蝕機占據了百分之二十到百分之二十七的市場份額，可以說，除了光刻機之外，刻蝕機是最重要的芯片生產設備，所以中國在刻蝕機上的技術上有了重大的突破。

中國各大芯片產業都在努力發展自己的芯片，目前國內的芯片生產大多是14nm以上的先進技術，業內估計14nm就能滿足國內70%的需求。

隨著全球晶片市場的低迷，廠商們對成本的控制越來越嚴格，28nm以上的技術，也越來越成熟，成本也越來越低，可靠性也越來越高，中國三大晶圓廠都是最大的贏家，到了2021年，中國三大晶圓廠的收入增長速度，已經超越了臺積電。

臺積電在5nm制程等先進制程上，將28nm制程擴展至28nm制程，力圖與中國三大晶圓廠商一較高下。不過，對于晶片工業而言，尖端技術終究是未來，因此中國的晶片產業鏈仍需加速發展。

中國在刻蝕技術上的發展，已經證明了芯片的生產并不是一件不可能完成的事情，刻蝕技術的快速發展，將會推動中國的芯片產業鏈的發展，中國的半導體行業，將會有更多的機會。

ASML公司的高層們，在中國的晶片產業鏈上取得了突破性的進展，ASML的高層們早就說過，限制中國出貨光刻機，對整個世界的芯片供應鏈都沒有任何好處，中國遲早會突破技術壁壘，而中國在刻蝕機上的突破，也證實了ASML的預言，ASML公司正在加緊向中國出口貨光刻機，以期在這一領域占據更大的優勢。

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